传统汞灯曝光机有如下缺点：

      1、采用在的反光罩，发光角度超过45度，反光罩无规律反射和漫射；造成阻焊成像解析度不高，生产有精密的BGA、阻焊桥等产品良品率降低。

      2、光强分布不均匀，台面整体均匀度在85%左右，台面边缘均匀度更低，整个台面的利用率不足80%；造成生产效率降低，品质一致性差，有些产品中间正常，四角曝光不良。

      3、光源稳定性差，使用寿命在1000小时左右，在这么短的时间内光强变化明显；造成周期性更换光源和相关配件，维护成本高。

      4、曝光区间严格控制在台面80%的区间，台面四周与中间能量不均匀，品质一致性差。因为是散光，精密BGA和阻焊桥等曝光合格率低，还会出现显影侧蚀、阻焊桥甩线等不良；造成生产管控难度增大，操作必须保持阻焊精密和深度固化二者之间艰难平衡。品质稳定性和一致性差，良率降低。

      5、传统曝光机采用高压汞灯发光成像，加配空调冷却，整台机器超过30KW,;造成耗能成本高，利润空间降低。

      6、维护复杂、换汞灯、水套、高子罐、密封圈等，维护成本高，造成每年耗材和维护成本达3万左右。

      7、因解像度的局限，难以开发更精密的产品，市场局限显现，难以跟上电子产品更轻、更薄、更密、更多功能的发展要求，这样成为制约公司发展的技术瓶颈，影响公司发展。